1.氦檢漏設備采用便攜式設計
2.設備外型美觀小巧
3.氦檢漏設備采用液晶觸摸屏設計
4.有通訊接口
5.可以方便地將檢漏數(shù)據(jù)輸出
氦檢漏設備的較小可檢漏率(靈敏度),指的是在檢漏裝置在處于一個較佳的工作條件下(示漏氣體采用的是一個大氣壓的純氦),做“動態(tài)檢漏”時能檢出的較小漏孔的漏率。
1、較佳工作條件。
指被檢鍍膜設備部件的材料出氣很少,且沒有較大漏孔;檢漏裝置本身的參數(shù)調整到較佳工作狀態(tài)等。
2、動態(tài)檢漏。
指不用累積法進行檢漏,檢漏裝置本身的真空抽氣系統(tǒng)仍正常進行抽真空,裝置的反應時長小于3s,3s當中的抽氣系統(tǒng)的時間常數(shù)是小于一秒的;
3、較小可檢。
指其信號是本底噪聲的兩倍;
4、漏孔的漏率。
指干燥空氣(100kPa的壓力)經(jīng)漏孔通向真空端(遠遠低于100kPa的壓力)的漏率。
對氦分壓變化有反應的氦質譜檢漏儀,為表征這種反應特性,較好給出檢漏裝置的較小可檢濃度,即濃度靈敏度。所謂檢漏裝置的“濃度靈敏度”,指處在工作壓力下(工作壓力一般為10?2Pa~10?3Pa)的質譜室,使用該裝置可檢示的大氣中的較小氦濃度的變化。而鍍膜設備的氦質譜檢漏儀中的“較小可檢濃度”則為信號與裝置噪聲比為一或二時,當中氦的濃度。